改良西门子法生产多晶硅工艺流程

改良西门子法生产多晶硅工艺流程内容摘要：

气缓冲罐后，也通入汽化器内，与三氯 氢硅蒸汽形成一定比例的混合气体。 从三氯氢硅汽化器来的三氯氢硅与氢气的混合气体送入还原炉内。 在还原炉内通电的炽热硅芯/硅棒的表面，三氯氢硅发生氢还原反应，生成硅沉积下来，使硅芯/硅棒的直径逐渐变大，直至达到规定的尺寸。 氢还原反应同时生成二氯二氢硅、四氯化硅、氯化氢和氢气，与未反应的三氯氢硅和氢气一起送出还原炉，经还原尾气冷却器用循环冷却水冷却后，直接送往还原尾气干法分离工序。 还原炉炉筒夹套通入热水，以移除炉内炽热硅芯向炉筒内壁辐射的热量，维持炉筒内壁的温度。 出炉筒夹套的高温热水送往热能回收工序，经废热锅炉生产水蒸汽而降温后，循环 回本工序各还原炉夹套使用。 还原炉在装好硅芯后，开车前先用水力射流式真空泵抽真空，再用氮气置换炉内空气，再用氢气置换炉内氮气（氮气排空），然后加热运行，因此开车阶段要向环境空气中排放氮 气和少量的真空泵用水（可作为清洁下水排放）；在停炉开炉阶段（约5～7天1次），先用氢气将还原炉内含有氯硅烷、氯化氢、氢气的混合气体压入还原尾气干法回收系统进行回收，然后用氮气置换后排空，取出多晶硅产品，移出废石墨电极，视情况进行炉内超纯水洗涤，因此停炉阶段将产生氮气、废石墨和清洗废水。 氮气是无害气体，因此正常情况下还原炉开、停车阶段无有害气体排放。 废石墨由原生产厂回收，清洗废水送项目含氯化物酸碱废水处理系统处理。 7. 还原尾气干法分离工序 从三氯氢硅氢还原工序来的还原尾气经此工序被分离成氯硅烷液体、氢气和氯化氢气体，分别循环回装置使用。 还原尾气干法分离的原理和流程与三氯氢硅合成气干法分离工序十分类似。 从变温变压吸附器出口得到的高纯度的氢气，流经氢气缓冲罐后，大部分返回三氯氢硅氢还原工序参与 制取多晶硅的反应，多余的氢气送往四氯化硅氢化工序参与四氯化硅的氢化反应；吸附器再生废气送往废气处理工序进行处理；从氯化氢解析塔顶部得到提纯的氯化氢气体，送往放置于三氯氢硅合成工序的循环氯化氢缓冲罐；从氯化氢解析塔底部引出的多余的氯硅烷液体（即从三氯氢硅氢还原尾气中分离出的氯硅烷），送入氯硅烷贮存工序的还原氯硅烷贮槽。 8. 四氯化硅氢化工序 经氯硅烷分离提纯工序精制的四氯化硅，送入本工序的四氯化硅汽化器，被热水加热汽化。 从氢气制备与净化工序送来的氢气和从还原尾气干法分离工序来的多余氢气在氢气缓冲 罐混合后，也通入汽化器内，与四氯化硅蒸汽形成一定比例的混合气体。 从四氯化硅汽化器来的四氯化硅与氢气的混合气体，送入氢化炉内。 在氢化炉内通电的炽热电极表面附近，发生四氯化硅的氢化反应，生成。