以紫外光臭氧程序增进光触媒对室内挥发性有机物去除效(编辑修改稿)

以紫外光臭氧程序增进光触媒对室内挥发性有机物去除效(编辑修改稿)内容摘要：

粒徑小的觸媒有較高的吸附容量 ， 對於光觸媒反應有正面的協同效應 (Linda Zou,20xx)  觸媒批覆厚度  影響的去除效果會因為物種的不同而有改變 ， 且礙於實驗技術上的限制 ， 固不討論之  UV光強度  對所有化合物來說 ， 殺菌燈 (254nm)都較黑光燈 (352nm)有較高的光催化降解率 (Sang Bum Kim,20xx)  溫度  影響的去除效果會因為物種的不同而有改變 ， 所以在實驗上將之固定在室溫 (25 ℃ ) 實驗可能影響因子 (探討 )  VOCs進流濃度 (, 20xx) 由圖可知甲苯的降解率隨著進流濃度增加而減少 ， 這是因為觸媒表面上只有固定的活性吸附位址 ， 但須被吸附的汙染物不斷增加所致。 實驗可能影響因子 (探討 ) 由表可知 ， 光源波長越短 ， 汙染物轉化率越高 ， 中間產物量也越少。 由圖可知 ， 在濃度範圍在 ~2 ppmv 間 ， 即使光波長在 254甚至 365nm， 轉化率並不隨時間有太大變化。 但在此波長下 ， 濃度提升到 10ppmv， 則轉化率有明顯下降 ， 這是因為發生觸媒鈍化的現象 (Juyoung Jeong, 20xx) (註 )光觸媒之失活 (鈍化 )與再生  觸媒失活  光觸媒氧化反應會產生因實驗物種不同而不同的中間產物 ， 其累積在觸媒表面上會造成觸媒失去其原本作用  而文獻指出使用精油時可能會產生高濃度之單帖烯類(alphapinene,limonene)， 這類物質被認為會與強氧化物質反應作用產生二次污染物。 (龔 ,20xx)  觸媒再生  文獻中指出在低波長的紫外光照射下 ， 再加入臭氧或是提高反應系統之溼度 ， 都會減少刺激性反應副產物減少(Kim,20xx； Wang,20xx； Jeong,20xx) 實驗可能影響因子 (探討 )  氣體流率 (Yu,20xx) 當氣體流率從 0提升到 1000 ml/min時 ， 甲苯氧化率隨之增加 ， 但在氣體流率大於 1000 ml/min時 ， 氧化率的提升趨於平緩 ， 由此可知 ， 以此實驗來說為減少質傳效應的影響 ， 可以將氣體流率控制在約 1200 ml/min 實驗可能影響因子 (探討 )  相對溼度 (Juyoung Jeong, 20xx) 在相對溼度在＜ 40 ％ 時 ， 轉化率與相對濕度是成正比的 ， 但在濕度＞ 40 ％ 時 ， 甲苯的轉化率開始趨於平緩甚至減少 ， 這也是因為水與汙染物產生競爭吸附效應的結果 實驗可能影響因子 (探討 ) (Sang Bum Kim, 20xx) 水蒸氣的增加增加了甲苯的光反應速率 ， 但卻減少丙酮的反應速率 ， 由此可知水蒸氣對反應速率的影響會因為物種的不同而有改變 實驗可能影響因子 (探討 )  臭氧濃度 (Juyoung Jeong, 20xx) 由前述可知 ， 臭氧在 UV光解反應下可以產生 O2 與 O2－ ∙ 使之達到更好的氧化反應 在同樣無水氣的情況下 ， 氧氣的添加使甲苯轉化率從 10提升到 46％ 在沒有 TiO2 觸媒下 ， 加入水氣 ， 使甲苯轉化率從 46提升到 90 ％ ， 這是因為高反應性分子產生的光化學降解 光反應器 (Yu,20xx) 使用粒徑約為 30 nm、比表面積為 50 m2/g的商用 TiO2 (Degussa P25) 紫外光波長為 254 nm，強度為 45μW/cm 2 使用恆溫箱將溫度控制在 25 ℃ GC Mass flow controller HEPA Ozo。